该分析仪采用光学发射光谱（OES）或激光诱导击穿光谱（LIBS）技术。在OES中，铜电极与熔融金属表面之间产生电火花，激发原子发出特征光。在LIBS中，激光脉冲烧蚀少量材料，产生等离子体并发射光。发射光通过石英光学窗口收集，并导向光谱仪，光谱仪将光分散成不同波长。通过分析特定谱线的强度，系统确定碳、硅、锰等元素的浓度。整个测量周期为2–5秒，提供近实时数据用于过程控制。
| 参数 | 典型区间 | 选型说明与越界后果 |
|---|---|---|
| 分析时间 | 2–5 秒 | 完成一次测量周期所需的时间 |
| 温度范围 | 0–50 摄氏度 | 兼容熔融金属温度 |
| 可检测元素 | Fe, C, Si, Mn, P, S, Cr, Ni, Mo, Cu, Al, Ti 个 | 分析的元素数量 |
| 测量精度 | ±0.05 % | 典型分析精度 |
| 测量范围 | 0.001–100 % | Concentration range for alloying elements |
| 采样频率 | 1–10 Hz | Continuous real-time measurement update rate |
| 电源 | 220 ±10% V AC | Single-phase, 50/60 Hz |
| 功耗 | ≤500 W | Maximum power draw during operation |
| 工作压力 | 0.1–0.5 MPa | Pressure of inert gas for probe purging |
| 防护等级 | IP54 | Protected against dust and water splashesIEC 60529 |
| 通信接口 | RS485, 4–20 mA | Analog output for process control |
| 重量 | 15–25 kg | Depends on configuration and probe length |
区间为行业参考值，供询价时圈定范围用，不构成供应商承诺。下单前请向法人制造商核实每一项数值与标准。
诱因 → 失效模式 → 工程缓解
该产品在 CNFX 数据库中的搜索词、别名和技术称呼。
| pressure: | 常压至1.5巴 |
| flow rate: | 0.1至5.0米/秒 |
| temperature: | 1400°C至1800°C |
不是客户评论，也不是实时热度。以下维度用于前期 RFQ 准备和供应商评估。
这些分值是采购评估维度示例，不代表真实客户评分、具体国家买家反馈或实时询盘。
根据产品规格，分析仪可检测Fe、C、Si、Mn、P、S、Cr、Ni、Mo、Cu、Al和Ti。具体检测元素可能因型号而异，请与制造商确认。
每次测量周期的分析时间为2–5秒，可实现近实时监测熔融金属成分，便于在生产过程中及时调整。
该系统专为高温、多尘的铸造环境设计，防护等级为IP54，可防尘和防溅水。熔融金属温度应在0–50°C范围内以确保测量准确。
提供的资料中未指定校准程序。必须遵循制造商的校准和验证说明以确保测量准确。请联系供应商获取详细指导。
CNFX 是开放目录，不是交易平台或采购代理。工厂资料和表单用于帮助你准备直接沟通。
CNFX 制造商资料、技术分类、公开产品信息和持续合理性检查。
说明目标数量、应用场景、交期和关键技术要求，用于准备 RFQ 或供应商评估。
