行业组件数据 · 2026

光栅表面

繁體:光柵表面

光栅表面是一种关键光学元件,具有在基板上精确图案化的平行凹槽或线条阵列,用于将入射光衍射成多个光束。

技术定义与适配语境
典型 光栅表面 会按材料、尺寸公差、适配关系和失效风险在 计算机、电子和光学产品制造 中评估。

光栅表面是一种关键光学元件,具有在基板上精确图案化的平行凹槽或线条阵列,设计用于根据光栅方程将入射光衍射成多个特定角度的光束。该元件可在从光谱学到激光系统等应用中实现波长分离、光谱分析和光束转向。 基于衍射原理工作:当光照射到周期性结构时,在满足 nλ = d(sinθ_i + sinθ_m) 的角度上发生相长干涉,其中 n 是衍射级次,λ 是波长,d 是凹槽间距,θ_i 是入射角,θ_m 是衍射角。这会将光分散成其组成波长。

组件规格

定义
光栅表面是一种关键光学元件,具有在基板上精确图案化的平行凹槽或线条阵列,设计用于根据光栅方程将入射光衍射成多个特定角度的光束。该元件可在从光谱学到激光系统等应用中实现波长分离、光谱分析和光束转向。

基于衍射原理工作:当光照射到周期性结构时,在满足 nλ = d(sinθ_i + sinθ_m) 的角度上发生相长干涉,其中 n 是衍射级次,λ 是波长,d 是凹槽间距,θ_i 是入射角,θ_m 是衍射角。这会将光分散成其组成波长。
工作原理
基于衍射原理:当光照射到周期性结构时,会在满足 nλ = d(sinθ_i + sinθ_m) 的角度上发生相长干涉,其中 n 为衍射级次,λ 为波长,d 为刻线间距,θ_i 为入射角,θ_m 为衍射角。这会将光色散为其组成波长。
材料
通常由熔融石英、硼硅酸盐玻璃或金属基板(例如铝、金)制成并带有铝或介电层等涂层以增强反射率。凹槽通过机械刻划、全息曝光或蚀刻工艺形成。
尺寸
定制(例如 25x25 mm 至 100x100 mm)mm
闪耀角
可定制(例如 5°-30°)°
刻线密度
300-2400lines/mm
表面平整度
λ/10at 632.8 nm
镀膜反射率
>85%%
标准
ISO 10110ISO 14999DIN 3140

行业分类与别名

光栅表面 的常用贸易名称、技术标识和检索关键词。

上级产品

该组件会出现在以下整机或工业产品中。

FMEA · 风险与缓解

诱因 → 失效模式 → 工程缓解

安装过程中操作不当->光栅表面划伤或污染->使用洁净室规程、保护盖,并由经过培训的人员进行搬运和安装。
暴露于潮湿或化学环境->镀膜腐蚀或基底退化->应用保护性镀膜,控制存储条件,并在操作中使用密封外壳。

工业生态与工程逻辑

适配说明
该光栅表面兼容多种光谱仪、单色仪和激光系统。订购前请确认刻线密度、闪耀角及尺寸是否符合您的应用需求。
常见供应商与等效型号
工程风险
  • 表面污染导致效率降低
  • 刻线机械损伤
  • 热膨胀影响对准
  • 镀膜随时间退化

合规与检测

公差
刻线间距公差 ±0.5%,角度精度 ±0.1°
检测方法
表面平整度采用干涉测量,效率采用分光光度法,刻线检查采用显微镜,符合 ISO 10110。

制造该组件的工厂

来自 CNFX 组件能力表的相关制造商资料。

制造商列表用于前期研究和供应商能力理解,不代表认证、排名或交易担保。

采购评估维度

不是客户评论,也不是实时热度。以下维度用于前期 RFQ 准备和供应商评估。

技术文档
4/5
制造能力
4/5
可检验性
5/5
供应商透明度
3/5

这些分值是采购评估维度示例,不代表真实客户评分、具体国家买家反馈或实时询盘。

相关组件

常见问题

刻划光栅和全息光栅表面有什么区别?

刻划光栅是机械刻划而成,在特定闪耀角下具有高效率;而全息光栅通过干涉图案制作,具有更低的杂散光和更好的均匀性,适用于宽光谱应用。

刻线密度如何影响光栅性能?

更高的刻线密度会增加角色散和分辨率,但会减小自由光谱范围;选择取决于应用所需的波长覆盖范围和光谱分辨率。

我可以直接联系工厂吗?

CNFX 是开放目录,不是交易平台或采购代理。工厂资料和表单用于帮助你准备直接沟通。

CNFX Industrial Component Index · 计算机、电子和光学产品制造

数据基础

CNFX 制造商资料、技术分类、公开产品信息和持续合理性检查。

初步技术归类
本页用于结构化准备研究、RFQ 和供应商评估,不替代买方自己的供应商资质审查、标准核验和技术批准。

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URN:CNFX:ME:UNIT:GRATING_SURFACE
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