繁體：介質鍍膜
介质镀膜是一种多层薄膜光学镀膜，应用于分束器表面，以精确控制特定波长光的反射和透射。
介质镀膜是一种多层薄膜光学镀膜，应用于分束器表面，以精确控制特定波长光的反射和透射。与金属镀膜不同，介质镀膜利用透明材料中的干涉效应，实现高效率、低吸收和定制化的光谱性能，适用于激光器、成像系统和光学仪器。 其工作原理基于光学干涉，通过沉积具有交替高低折射率的介质材料层，在特定波长处产生相长干涉和相消干涉，从而控制反射和透射光束的振幅和相位。
该组件会出现在以下整机或工业产品中。
诱因 → 失效模式 → 工程缓解
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介质膜使用透明材料和干涉效应，具有高效率、低吸收；金属膜依赖铝或银等金属，光谱覆盖更宽，但吸收较高，损伤阈值较低。
通常采用真空沉积技术，如物理气相沉积（PVD）或化学气相沉积（CVD），可精确控制膜层厚度和成分。
关键因素包括材料折射率、膜层厚度、层数、沉积质量、基片表面处理以及湿度和温度等环境条件。
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