射频功率发生器利用固态或电子管振荡电路将低频交流电转换为高频射频功率。然后，该射频功率通过阻抗匹配网络传输到工艺腔室电极，在那里电离工艺气体以产生等离子体。发生器通过监测正向和反射功率的反馈控制系统来维持稳定的输出。
| 参数 | 典型区间 | 选型说明与越界后果 |
|---|---|---|
| 输出功率 | 100–1000 W | Selectable to match plasma process requirements |
| 频率 | 13.56 MHz | Standard RF frequency for plasma processing |
| 频率精度 | ±0.01 % | Ensures stable plasma conditions |
| 输出功率稳定性 | ±0.5 % | Critical for process repeatability |
| 输入电压 | 180–264 V AC | Universal input for global use |
| 输入频率 | 47–63 Hz | Compatible with mains supplies |
| 效率 | ≥85 % | Higher efficiency reduces cooling requirements |
| 工作温度 | 0–40 °C | Derate above 40°C |
| 存储温度 | -20–70 °C | Non-operational storage |
| 湿度 | ≤90 % RH | Non-condensing |
| 防护等级 | IP54 | Protection against dust and water sprayIEC 60529 |
| 冷却方式 | Air | Forced air cooling |
| 尺寸（宽×高×深） | 440×88×500 mm | 19-inch rack mountable, 2U height |
| 重量 | ≤15 kg | Lightweight for easy installation |
区间为行业参考值，供询价时圈定范围用，不构成供应商承诺。下单前请向法人制造商核实每一项数值与标准。
诱因 → 失效模式 → 工程缓解
| pressure: | 大气压操作，工艺腔室压力范围 500-1000 mTorr |
| other spec: | 流量：工艺气体流量 50-500 sccm，浆料浓度：不适用（干法等离子体工艺），频率范围：标准 13.56 MHz 或 2.45 MHz，功率输出：典型值 100W 至 5000W |
| temperature: | 工作环境温度 10°C 至 40°C，储存温度 0°C 至 50°C |
不是客户评论，也不是实时热度。以下维度用于前期 RFQ 准备和供应商评估。
这些分值是采购评估维度示例，不代表真实客户评分、具体国家买家反馈或实时询盘。
目录中列出的输出功率范围为100–1000 W，可根据等离子体工艺要求进行选择。但具体范围可能因型号而异，请与制造商确认。
标准频率为13.56 MHz，常用于等离子体处理。也可能提供其他工业频率，但具体型号的值需核实。
发生器接受180–264 V AC的输入电压和47–63 Hz的输入频率，使其兼容全球市电。请务必检查铭牌上的确切额定值。
防护等级为IP54（IEC 60529），提供防尘和防喷水保护。冷却方式为强制风冷。这些规格是参考值，应针对实际设备进行确认。
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说明目标数量、应用场景、交期和关键技术要求，用于准备 RFQ 或供应商评估。