行业验证制造数据 · 2026

光电二极管阵列

基于 CNFX 目录中多个工厂资料的聚合洞察,光电二极管阵列 在 计算机、电子和光学产品制造 行业中通常会围绕 标准工业配置 到 重载生产要求 进行能力评估。

技术定义与核心装配

一个典型的 光电二极管阵列 通常集成 光电二极管元件 与 基板。CNFX 上列出的制造商通常强调 硅 (Si) 结构,以支持稳定的生产应用。

一种将多个光电二极管以线性或二维方式集成在单一半导体衬底上的排列,用于同时检测多个点的光强度。

技术定义

光电二极管阵列是位置敏感探测器(PSD)系统中的关键组件。它由多个离散的光电二极管元件按精确图案(通常为线性或矩阵)排列而成。在PSD中,阵列捕获入射光,通过分析各个二极管上的信号分布,系统能够以高空间分辨率确定落在其表面的光斑或图像的位置、运动或轮廓。

工作原理

阵列中的每个光电二极管基于半导体p-n结的光电效应原理工作。当光子撞击二极管的有效区域时,如果其能量超过半导体的带隙,就会产生电子-空穴对。这会产生与该特定位置的光强度成正比的光电流。阵列的读出电路(通常是多路复用的)顺序或同时测量每个二极管的电流,从而创建光强度的空间分布图。在PSD应用中,算法随后处理该强度分布图,以计算光分布的质心或形状,并将其转换为精确的位置数据。

主要材料

硅 (Si) 锗 (Ge) 砷化铟镓 (InGaAs)

组件 / BOM

光电二极管元件
基础光敏单元;一种将光子转换为电流的半导体p-n结
材料: 硅、锗或III-V族化合物半导体
基板
制造光电二极管元件及相关电路的基础半导体晶圆(例如硅晶圆)
材料: 硅(常规应用),蓝宝石(特殊应用)
钝化层
沉积在半导体表面的保护性介电层(如二氧化硅、氮化硅),用于稳定电气特性并防止污染
材料: 二氧化硅(SiO₂)、氮化硅(Si₃N₄)
金属化/键合焊盘
导电线路和接触焊盘(通常为铝或金材质),用于光电二极管元件与外部读出电路之间的电气互连
材料: 铝、金

FMEA · 风险与缓解

诱因 → 失效模式 → 工程缓解

操作过程中静电放电(ESD)超过500 V HBM(人体模型) 集成读出电路中的栅氧化层击穿,在相邻光电二极管元件之间产生永久性短路 采用具有0.5 μm 回跳间距的片上ESD保护二极管,以及表面电阻率 <10^9 Ω/平方 的抗静电封装
持续暴露于峰值光谱响应(硅通常为900 nm)下 >10^12 光子/cm²·s 的光照 饱和引起的弥散,电荷溢出到相邻像素,导致空间分辨率损失和固定图案噪声 采用掺杂浓度为10^15 cm⁻³ 的集成电荷泄放结构,以及光密度为OD 1.0 衰减的光学中性密度滤光片

工程推理

运行范围
范围
辐照度:0.1-1000 μW/cm²,波长:350-1100 nm,环境温度:-40°C 至 +85°C
失效边界
永久性损坏发生在每个二极管元件连续光功率 >5 mW、反向偏置电压 >100 V 或结温 >150°C 时。
由过量光子通量引起的热失控导致晶格缺陷传播、反向偏压超过半导体带隙能量(硅为1.12 eV)引起的雪崩击穿,或在高温下的掺杂剂扩散。
制造语境
光电二极管阵列 在 计算机、电子和光学产品制造 中会按材料、工艺窗口和检验要求共同评估。

行业别名与关键词

该产品在 CNFX 数据库中的搜索词、别名和技术称呼。

应用产品 / 所属系统

该产品或部件会出现在以下工业系统、设备或上级产品中。

应用匹配与尺寸矩阵

运行限制
pressure:大气压至1个大气压(标准封装),特殊封装可兼容真空
flow rate:不适用
temperature:-40°C 至 +85°C(工作温度),-55°C 至 +125°C(存储温度)
兼容性
可见光光谱分析激光光束分析光学字符识别系统
不适用:高能辐射环境(X射线、伽马射线)
选型所需数据
  • 所需的光谱响应范围(nm)
  • 所需的像素/元件数量
  • 所需的数据采集速率(帧/秒)

可靠性与工程风险分析

失效模式与根因
信号劣化
原因:由于热老化或污染物侵入损害光学表面,导致光电二极管暗电流增加。
阵列元件失效
原因:操作过程中的静电放电(ESD)损坏或焊点热循环疲劳。
维护信号
  • 光谱数据输出中的噪声增加或基线漂移
  • 光学窗口表面出现可见的冷凝、颗粒积聚或变色
工程建议
  • 在安装/操作过程中实施严格的ESD协议,并尽可能保持洁净室条件
  • 确保稳定的热环境,配备适当的散热装置,并在操作过程中避免快速温度循环

合规与制造标准

参考标准
ISO 9001:2015 - 质量管理体系IEC 60747-5-2 - 半导体器件 - 分立器件 - 光电二极管CE标志 - 欧盟电磁兼容性与安全性合规
制造精度
  • 光谱响应均匀性:整个阵列范围内 +/-5%
  • 暗电流:25°C时每像素 <1nA
质量检验
  • 跨波长的量子效率测量
  • 像素间串扰分析

生产该产品的制造商

具备该产品生产能力的中国制造商与相关工厂资料。

制造商列表用于前期研究和供应商能力理解,不代表认证、排名或交易担保。

采购评估维度

不是客户评论,也不是实时热度。以下维度用于前期 RFQ 准备和供应商评估。

技术文档
4/5
制造能力
4/5
可检验性
5/5
供应商透明度
3/5

这些分值是采购评估维度示例,不代表真实客户评分、具体国家买家反馈或实时询盘。

供应链相关产品与组件

三维图案扫描仪

工业系统中用于捕获物体表面三维图案与纹理的组件。

查看规格 ->
空气质量监测仪

一种用于测量并报告多种空气污染物浓度及环境参数的电子设备。

查看规格 ->
抗静电

A device or system designed to prevent, reduce, or eliminate the buildup of static electricity on surfaces, materials, or components.

查看规格 ->
资产追踪设备

一种利用定位技术实时监测和记录物理资产位置、状态及移动轨迹的电子设备。

查看规格 ->

常见问题

光电二极管阵列在计算机和光学产品制造中的主要应用有哪些?

光电二极管阵列在光谱分析、成像系统、光学字符识别、条码扫描以及各种电子和光学设备中的光测量方面至关重要。

材料选择(硅、锗或InGaAs)如何影响光电二极管阵列的性能?

硅阵列最适合可见光,锗适合近红外光,InGaAs适合扩展的红外范围。材料选择决定了光谱响应、灵敏度和工作温度范围。

将光电二极管阵列集成到电子系统中时应考虑哪些因素?

关键考虑因素包括阵列几何形状(线性与二维)、像素间距和均匀性、暗电流、响应时间、光谱范围匹配以及通过键合焊盘与读出电子设备的正确接口。

我可以直接联系工厂吗?

CNFX 是开放目录,不是交易平台或采购代理。工厂资料和表单用于帮助你准备直接沟通。

CNFX Industrial Index v2.6.05 · 计算机、电子和光学产品制造

数据基础

CNFX 制造商资料、技术分类、公开产品信息和持续合理性检查。

初步技术归类
本页用于结构化准备研究、RFQ 和供应商评估,不替代买方自己的供应商资质审查、标准核验和技术批准。

请求制造能力信息: 光电二极管阵列

说明目标数量、应用场景、交期和关键技术要求,用于准备 RFQ 或供应商评估。

你的商务信息仅用于处理本次请求。

谢谢,信息已发送。
谢谢,信息已收到。

需要制造 光电二极管阵列?

对比具备该产品与工艺能力的制造商资料。

创建制造商档案 联系我们
上一个产品
光电二极管接收器
下一个产品
光电传感器发射器