通过物理气相沉积（PVD）或化学气相沉积（CVD）工艺，在高真空环境中将镀膜材料汽化并沉积到透镜表面。
诱因 → 失效模式 → 工程缓解
该产品在 CNFX 数据库中的搜索词、别名和技术称呼。
| pressure: | 高真空: 1e-6 至 1e-3 Torr (工艺), 1 atm 最大 (环境) |
| flow rate: | 流量: 10-100 sccm (气体), 浆料浓度: 不适用 (干法工艺), 镀膜均匀性: ±2% / 300mm直径 |
| temperature: | -20°C 至 200°C (运行), 最高 300°C (工艺) |
不是客户评论，也不是实时热度。以下维度用于前期 RFQ 准备和供应商评估。
这些分值是采购评估维度示例，不代表真实客户评分、具体国家买家反馈或实时询盘。
腔室主体采用316L不锈钢制造，需要导热性的组件采用高纯度铝合金，观察窗采用硼硅酸盐玻璃，以在镀膜过程中保持光学清晰度。
我们的精密光学镀膜腔室具有极低的漏率，通常低于1×10⁻⁹ mbar·l/s，确保稳定的真空条件，这对光学透镜上一致的薄膜沉积质量至关重要。
该腔室包含具有宽温度范围（通常高达400°C）的精密加热元件，并在基板支架上实现均匀的热分布，从而允许控制沉积速率并为光学应用实现最佳的涂层附着力。
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