该腔体创造高真空环境，通过物理气相沉积（PVD）或化学气相沉积（CVD）工艺将镀膜材料蒸发并沉积到镜片表面。在PVD中，镀膜材料被蒸发或溅射，并在镜片上冷凝。在CVD中，前驱气体在加热的基板上反应形成薄膜。腔体的设计通过控制真空压力、温度和气体流量来确保均匀沉积。在镀膜开始前达到≤5.0×10⁻⁴帕的极限压力，沉积过程中维持1.0–1.6毫巴的工作压力范围。基板加热（6–12千瓦）有助于获得所需的薄膜性能。腔体的端口允许监控和过程控制。≤1.0×10⁻⁹毫巴·升/秒的泄漏率确保最小污染，-40–85°C的温度范围适应各种工艺要求。
| 参数 | 典型区间 | 选型说明与越界后果 |
|---|---|---|
| 腔室直径 | 800–1200 毫米 | 真空腔体的内径 |
| 工作压力范围 | 1.0–1.6 毫巴 | 操作真空压力范围 |
| 泄漏率 | ≤1.0×10⁻⁹ 毫巴·升/秒 | 最大允许真空泄漏率ISO 21360 |
| 温度范围 | -40–85 摄氏度 | 涂层工艺操作温度范围 |
| 端口数量 | 8–12 个 | 标准CF法兰附件数量 |
| 镀膜均匀性 | ±1 % | Thickness variation across the lens surface. |
| 极限压力 | ≤5.0×10⁻⁴ Pa | Base pressure before coating process starts.ISO 21360 |
| 加热功率 | 6–12 kW | For substrate heating to achieve desired film properties. |
| 电源 | 380 ±10% V AC | Three-phase, 50/60 Hz.IEC 60038 |
| 防护等级 | IP54–IP65 | Protection against dust and water jets.IEC 60529 |
| 材料 | SUS304 | Stainless steel for corrosion resistance and vacuum compatibility.ASTM A240 |
| 重量 | 800–1200 kg | Depends on size and configuration. |
区间为行业参考值，供询价时圈定范围用，不构成供应商承诺。下单前请向法人制造商核实每一项数值与标准。
诱因 → 失效模式 → 工程缓解
该产品在 CNFX 数据库中的搜索词、别名和技术称呼。
| pressure: | 高真空: 1e-6 至 1e-3 Torr (工艺), 1 atm 最大 (环境) |
| other spec: | 流量: 10-100 sccm (气体), 浆料浓度: 不适用 (干法工艺), 镀膜均匀性: ±2% / 300mm直径 |
| temperature: | -20°C 至 200°C (运行), 最高 300°C (工艺) |
不是客户评论，也不是实时热度。以下维度用于前期 RFQ 准备和供应商评估。
这些分值是采购评估维度示例，不代表真实客户评分、具体国家买家反馈或实时询盘。
该腔体用于相机镜头、科学仪器和医疗成像设备的光学镜片制造，施加抗反射、保护性或功能性薄膜以增强光学性能。
需要核实腔体直径、工作压力范围、泄漏率、温度范围、端口数量、镀膜均匀性、极限压力、加热功率、电源、防护等级、材料和重量，并与您的具体工艺要求和制造商规格进行比对。
通过控制真空条件、精确的温度管理和优化的气体流量实现均匀性。腔体的设计和指定的±1%均匀性公差确保镜片表面镀膜厚度一致。
迹象包括泄漏率增加、极限压力降低、镀膜不均匀或温度波动。建议定期检查密封件、观察窗和加热元件。始终遵循制造商的维护指南。
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说明目标数量、应用场景、交期和关键技术要求，用于准备 RFQ 或供应商评估。
